その他の高純度ガス
需要の増加が予想される高付加価値アイテムについて製造・生産するだけではなく、ソーシング、精製、
ミキシングなどを通してお客様に供給するなど、顧客満足のために最善の努力を尽くしています。
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ヘリウムHe
ヘリウムは代表的な不活性ガスであり、産業全般において必要とされ、キャリアガス、パージガス、クーリングおよびリークチェック、雰囲気ガスなど様々な分野で広く使用されています。
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クリプトンKr
半導体3D NANDの深孔加工のエッチングの際にmomentum gasとして使用されます。
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キセノンXe
半導体製造工程の中のエッチング工程で使用されるガスで、空気中に含まれる微量の元素で、Rare gasに分類される不活性気体です。
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四塩化ケイ素STC, SiCl4
チャンバーのフッ素のクリーニングおよびエッチング、シリカを製造するための原材料として使用されます。
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四フッ化ケイ素SiF4
半導体のプラズマエッチングおよびイオン注入工程で利用されるガスです。
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ホスフィンPH3
半導体のイオン注入工程で利用されているガスです。
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アルシンAsH3
半導体のイオン注入工程で利用されているガスです。
