エッチングガス
最高の技術力をもとに世界のエッチングガス市場を先導しています。
エッチングガスの中でも精密なエッチング能力を持っているトリフルオロメタン(CHF3)、六フッ化エタン(C2F6)、四フッ化メタン(CF4)、パーフルオロシクロブタン(C4F8)、ペンタフルオロエタン(C2HF5)などを生産・販売し、持続的に様々なエッチングソリューションを提供しようと思っています。
半導体およびディスプレイのエッチング工程は必要な回路パターンを除いた残りの部分を取り除く工程で、エッチングガスは半導体の線幅の微細化および高解像度ディスプレイに必要な微細回路パターンを具現するための精密エッチングに使用されます。
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トリフルオロメタンCHF3
CHF3はディスプレイパネルの製造工程でエッチング用として使用されます。
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六フッ化エタンC2F6
半導体の微細なパターンのエッチングに使用されます。
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四フッ化メタンCF4
酸化物膜のエッチングに使用されます。
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パーフルオロシクロブタンC4F8
マスクに高い選択比を提供し、3D NANDの高アスペクト比のエッチングに使用されます。
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ペンタフルオロエタンC2HF5
酸化膜、窒化物膜のエッチングに使用されます。
日本の昭和電工の協業による先進技術の確保および商品の調達(Sourcing)により、韓国の
半導体市場に高品質のエッチングガスを安定して供給しています。
顧客のニーズに先制的に対応し、絶え間ない研究開発によってエッチングガス
市場をリードしていきたいと思っています。
