前駆体

次世代工程用の新規特化素材に対する持続的な研究開発をもとに、DRAM電荷保存および
微細回路の形成のための最適のソリューションとなる前駆体(プリカーサ)を生産・販売します。

Zr-プリカーサ、Si-プリカーサ、Ti-プリカーサなど最高品質の次世代素材を開発しています。 特殊ガスのグローバルNo.1、SKマテリアルズが半導体素材市場で積み重ねた信頼と顧客対応力をもとに,
日本のトリケミカル研究所のプリカーサ技術力の集約により,
未来の主要成長動力としての役割を忠実に果たしてまいります。

前駆体は、半導体の工程中に反応器内に数種類の反応気体を流入させ, 化学反応を進めることにより希望する物質の薄膜をウェハー上に蒸着するために使用します。 半導体の微細化および積層構造の増加により、その需要の成長が期待されます。

  • Zr-プリカーサ

    半導体DRAMのキャパシタの製造工程において使用され、ALD工程によるZrO2の薄膜蒸着の用途で使用されます。

  • Si-プリカーサ

    半導体DRAMと3D-NANDの製造工程において使用され、CVD/ALD工程によるSiO2の薄膜蒸着の用途で使用されます。

  • Ti-プリカーサ

    半導体DRAMのキャパシタの製造工程で使用され、ALD工程によるTiO2の薄膜蒸着の用途で使用されます。

  • Hf-Precursor

    半導体DRAMのCapacitor製造工程で使用され、ALD工程におけるHfO2薄膜蒸着に使用されます。