식각가스
최고의 기술력을 바탕으로 세계 식각가스 시장을 선도하고 있습니다.
식각가스 중에서도 정밀한 식각 능력을 가지고 있는 트리플루오르메탄 (CHF3), 헥사플로오로에탄 (C2F6), 사플루오린화탄소 (CF4), 옥타플루오로사이클로뷰테인 (C4F8), 펜타플루오로에탄 (C2HF5) 등을 생산 판매하며, 지속적으로 다양한 식각 Solution을 제공하고자 합니다.
반도체 및 디스플레이의 식각 공정은 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 공정으로, 식각가스는 반도체 선폭 미세화 및 고해상도 디스플레이에 필요한 미세회로 패턴 구현을 위한 정밀 식각에 사용됩니다.
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트리플루오르메탄CHF3
CHF3는 Display 패널 제조 공정에서 식각용으로 사용됩니다.
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헥사플로오로에탄C2F6
반도체 미세패턴 식각에 사용됩니다.
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사플루오린화탄소CF4
산화물막 식각에 사용됩니다.
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옥타플루오로
사이클로뷰테인C4F8마스크에 대해 높은 선택비를 제공하며, 3D NAND 고종횡비 식각에 사용됩니다.
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펜타플루오로에탄C2HF5
산화막, 질화물막의 식각에 사용됩니다.
일본 쇼와덴코사와의 협업을 통한 선진기술 확보 및 상품 소싱(Sourcing)을 통해
국내
반도체 시장에 고품질의 식각가스를 안정적으로 공급하고 있습니다.
고객의 요구에 선제적으로 대응하고, 끊임없는 연구개발을 통해 식각가스 시장을 선도해 나가고자 합니다.
