증착가스
지속적인 연구개발과 적극적인 시장 대응전략을 통해 반도체 및
디스플레이 제조공정에서 핵심 소재인 다양한 증착가스를 생산 판매하고 있습니다.
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육불화텅스텐WF6더보기
Global No. 1 WF6는 반도체 제조공정에서 Metal Contact 및 Gate를 형성하는 용도로 사용됩니다.
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모노실란SiH4더보기
국내 최초, 유일의 모노실란(SiH4) 생산판매 SiH4는 반도체, 디스플레이 및 태양전지 제조공정에서 Si 절연막, Si 반사방지막 형성시 사용됩니다.
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디실란Si2H6더보기
Si2H6는 반도체 미세화 공정에 사용되는 가스로서, 박막 증착 시 저온에서 고속으로 균일한 막질을 형성하기 위한 용도로 사용됩니다.
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디클로로실란SiH2Cl2더보기
SiH2Cl2는 반도체 제조공정에서 질화막(SixNy) 증착시 사용됩니다.
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모노클로로실란SiH3Cl더보기
SiH3Cl은 반도체 및 디스플레이 공정용으로 사용되는 Precursor의 원재료입니다.
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트리메틸실란(3MS, SiH(CH3)3)더보기
반도체 금속라인들간의 층간 평탄화 절연막(SiO2) 형성 및 Gap fill 공정을 위한 증착가스입니다.
- 육불화텅스텐
WF6 - Global No. 1 WF6는 반도체 제조공정에서 Metal Contact 및 Gate를 형성하는 용도로 사용됩니다.
- 모노실란
SiH4 - 국내 최초, 유일의 모노실란(SiH4) 생산판매 SiH4는 반도체, 디스플레이 및 태양전지 제조공정에서 Si 절연막, Si 반사방지막 형성시 사용됩니다.
- 디실란
Si2H6 - Si2H6는 반도체 미세화 공정에 사용되는 가스로서, 박막 증착 시 저온에서 고속으로 균일한 막질을 형성하기 위한 용도로 사용됩니다.
- 디클로로실란
SiH2Cl2 - SiH2Cl2는 반도체 제조공정에서 질화막(SixNy) 증착시 사용됩니다.
- 모노클로로실란
SiH3Cl - SiH3Cl은 반도체 및 디스플레이 공정용으로 사용되는 Precursor의 원재료입니다.
- 트리메틸실란
(3MS, SiH(CH3)3) - 반도체 금속라인들간의 층간 평탄화 절연막(SiO2) 형성 및 Gap fill 공정을 위한 증착가스입니다.
