蚀刻气体

SK Specialty基于顶级技术力, 引领着全球蚀刻气体市场。

SK materials

生产销售蚀刻气体中具有精确蚀刻能力的三氟甲烷（CHF3）、六氟乙烷（C2F6）、四氟化碳（CF4）、八氟环丁烷（C4F8）、五氟乙烷（C2HF5）等蚀刻气体， 并预计在今后持续为客户提供各种蚀刻解决方案。

CH3F(모노플루오르메탄), C4F6(육불화부타디엔), CH2F2(디플루오르메탄), CHF3(트리플루오르메탄), ETC(기타) Dry Etching(->) 식각 공정 전 -> 식각 공정 후

半导体与显示屏蚀刻工艺是在电路图中只留下需要的部分，而将不需要的部份蚀刻去除的工艺流程。蚀刻气体应用于精密蚀刻工艺，制造半导体栅长微缩化工艺和高分辨率显示屏需要的微缩电路图。

  • 三氟甲烷CHF3

    CHF3在显示板制造
    工艺中用于蚀刻用途。

  • 六氟乙烷C2F6

    用于蚀刻半导体
    微细线路图案。

  • 四氟化碳CF4

    用于氧化物
    膜蚀刻工艺。

  • 八氟环丁烷C4F8

    可以为掩膜提
    供高选择比，用于3D NAND高纵横比
    蚀刻工艺。

  • 五氟乙烷C2HF5

    用于氧化膜以及氮
    化物膜的蚀刻工艺。

通过与日本昭和电工的合作获取先进技术，并通过商品经销（Sourcing）为韩国国内的半导体市场稳定提供高品质的蚀刻气体。 预先了解并应对客户的需求，通过坚持不懈地研究开发引领蚀刻气体市场的发展与进步。