前驱体

基于持续研发新一代工程用特殊新材料, SK Materials生产和销售各种前驱体 (Precursor), 而此类前驱体为DRAM芯片的电荷储存及微电路生成提供最佳解决方案。

研发出锆前驱体, 硅前驱体, 钛前驱体等新一代高品质材料。 作为全球第一的特种气体生产商, SK Materials凭借在半导体材料市场所积累的信赖和客户应对能力, 结合日本Tri chemical Laboratories的前驱体技术, 为未来的发展扮演着主要动力之角色。

在半导体工程, 前驱体之原理是在反应器里注入多种反应气体, 使其进行化学反应, 最终在晶圆上沉积形成所需材质的薄膜。随着半导体微细化及积层结构的增加, 预期前驱体之需求将不断增长。

  • 锆前驱体

    在半导体DRAM的电容器 (Capacitor) 制造工艺, 用于ALD设备上沉积形成氧化锆薄膜。

  • 硅前驱体

    在半导体DRAM和3D-NAND的制造工艺, 用于CVD/ALD设备中沉积形成氧化硅薄膜。

  • 钛前驱体

    在半导体DRAM的电容器 (Capacitor) 制造工艺, 用于ALD设备中沉积形成氧化钛薄膜。

  • Hf-前驱体

    用于半导体DRAM的Capacitor制作工程和通过ALD工程的HfO2薄膜沉积。